Inspecție rapidă cu semiconductor folosind diferite metode de observare a microscopului
Inspecția semiconductor a napolitanelor gravate și a circuitelor integrate (ICS) în timpul procesului de producție este crucială pentru identificarea și reducerea defectelor. Pentru a îmbunătăți eficiența controlului calității în etapa de producție timpurie și pentru a asigura performanța fiabilă a cipurilor de circuit integrate, soluțiile la microscop ar trebui să fie combinate cu diferite metode de observare pentru a oferi informații complete și precise despre diferite defecte. Metodele de observare introduse aici includ câmp luminos, câmp întunecat, polarizare DIC, ultraviolete, iluminare oblică și infraroșu. Sunt integrate în microscoape pentru detectarea și dezvoltarea napolitanelor și a circuitelor integrate.
Modul în care industria de fabricație a semiconductorilor beneficiază de microscopuri
Soluțiile microscopului joacă un rol important în detectarea eficientă și fiabilă, controlul calității (QC), analiza erorilor (FA) și cercetarea și dezvoltarea (cercetarea și dezvoltarea) în industria de fabricație a semiconductorilor.
În procesul de fabricație a semiconductorilor, pot apărea diverse tipuri de defecte la diferite etape, ceea ce poate afecta funcționarea normală a echipamentului. Cu cât sunt descoperite mai devreme aceste defecte, cu atât mai bine. Aceste defecte pot fi cauzate de particule de praf distribuite aleatoriu pe placă (defecte aleatorii) sau de zgârieturi, detașare și reziduuri de acoperiri și fotorezist cauzate de condiții de procesare (cum ar fi în timpul gravurii) și pot apărea în anumite zone ale waferului. Datorită dimensiunilor mici, microscoapele sunt instrumentul preferat pentru identificarea acestor defecte.
În special în comparație cu microscopele mai lente și mai scumpe, cum ar fi microscoape electronice (EM), microscoapele optice (OM) au multe avantaje. Datorită versatilității și ușurinței de utilizare, microscoapele optice sunt utilizate în mod obișnuit pentru studii calitative și cantitative ale defectelor pe napolitane goale și napolitane gravate/prelucrate, precum și în procesele de asamblare și ambalare ale circuitelor integrate (ICS).
Diferite metode de observare a microscopiei optice, cum ar fi câmpul luminos (BF), câmpul întunecat (DF), contrastul de interferență diferențială (DIC), polarizarea (POL), ultravioletul (UV), iluminarea oblică și lumina transmisă (IR) [1-4], sunt cruciale pentru procesele de inspecție a defectării de defecte rapide și precise în WAFER și integrare Circuit CHIP.
